考虑对流效应和磁场的CMP模型及其数值模拟

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• 来源
  《力学学报》 |2010年第6期|1060-1067|共8页
• 作者

  郑秋云; 李明军; 舒适;

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• 作者单位

  湘潭大学数学与计算科学学院;

  科学工程计算与数值仿真湖南省重点实验室;

  湘潭;

  411105;

  湘潭大学数学与计算科学学院;

  科学工程计算与数值仿真湖南省重点实验室;

  湘潭;

  411105;

  湘潭大学数学与计算科学学院;

  科学工程计算与数值仿真湖南省重点实验室;

  湘潭;

  411105;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 磁流体力学;
• 关键词

  化学机械抛光; 润滑模型; 磁流体; (抛光液)对流效应; 晶片;