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流化床电化学反应器研究：（Ⅲ）电沉积银系统的电位分布与表观性能

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摘要

本文研究了流化床电化学反应器的电位分布及电位在波动范围内的概率分布密度,获得了电沉积银系统的最佳床层膨胀率,并就温度对银沉积速率的影响、电流效率随Ag^(+)浓度的变化等进行了探讨.

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来源
《化工学报》 |1991年第5期|534-540|共7页
作者
孙启文; 朱英;
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作者单位

不详;

不详;

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正文语种 CHI
中图分类 TQ051.13;
关键词
流化床反应器; 银沉积; 电位分布;

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