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应用材料公司推出新Carina系统克服高K介电常数/金属栅极刻蚀难题

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Carina刻蚀系统采用高温技术为采用高K介电常数／金属栅极的逻辑和存储器件提供工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓。

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《工业和信息化教育》 |2007年第9期|57-57|共1页
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正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
应用材料公司; 金属栅极; 介电常数; 刻蚀; 系统; 存储器件; 高温技术;

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