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段超; 李坤; 高岗; 朱嘉琦;
哈尔滨工业大学;
表面化学反应; 透明导电薄膜; 原子层沉积; 纳米催化剂; 纵横比; 沉积薄膜; 三维表面; 沉积效率;
机译:使用Tetrakis-二甲基氨基锡和过氧化物通过原子层沉积法沉积的导电氧化锡薄膜,用于透明柔性电子产品
机译:通过原子层沉积与透明导电氧化物基板集成在一起的氮化钽薄膜,用于光电化学水分解
机译:原子层沉积沉积的透明导电钽掺杂ZnO薄膜中的掺杂机理
机译:用DEZN / TMIN和N_2O通过原子层沉积制备的透明导电IZO薄膜
机译:用于超导电子的hall钡钙铜氧化物薄膜:前体性能,沉积机理,相形成和通过金属有机化学气相沉积形成的三层结构。
机译:通过原子层沉积与透明导电氧化物基板集成的氮化钽薄膜用于光电化学水分解
机译:通过脉冲注入金属有机化学气相沉积沉积的透明导电CuCrO2薄膜:向上扩展的工艺技术,用于改善透明度/导电性权衡
机译:开发用于多功能红外(IR)传感的红外(IR)透明导电电极技术
机译:用于原子层沉积的带有氧化物元素的氧化物薄膜部分的卤化物掺杂源,用于制造卤素掺杂源的方法,具有用于沉积的氧化物层的原子层材料的氧化物与薄膜的掺杂的方法用卤代氧掺杂氧化薄膜的方法
机译:在基板上产生隔离薄膜的过程包括基板上硅原子层的原子沉积,基板上硅原子层上的氧原子层和基板上金属原子层的原子沉积,金属原子层上的氧原子层的原子沉积。
机译:用于通过使用原子层沉积方法向氧化物薄膜掺杂卤素的卤素掺杂源,用于制造卤素用于通过使用原子层沉积来对氧化物薄膜进行卤素掺杂的卤素掺杂源的方法,以及通过使用用于掺杂氧化物薄膜的方法制造的掺杂卤素的氧化物薄膜。含卤素
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