光学镀膜与装置

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＜正＞ O484.1 99031779射频溅射-热处理法研制SnO2薄膜=Study of theSnO2 thin-film prepared by RF-sputteringand heat-treatment[刊,中]/蒙冕武,邓希敏,刘明登（广西师范大学新技术新材料研究所.广西,桂林（541004））//传感器世界.—1998,4（11）.-10-15首先采用350 W×0.10 Pa×20 min的射频溅射工艺制备β-Sn膜,然后采用在530～650℃温度条件下

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来源
《中国光学(中英文)》 |1999年第3期|54-56|共3页
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正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
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