圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较

王凤英; 郭会斌; 唐伟忠; 吕反修

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在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱形和椭球形谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积设备中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态。对不同的微波输入功率、不同气体压力条件下,两种谐振腔式设备中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟。模拟结果表明,椭球形谐振腔的质量因子要高于圆柱形谐振腔;并且,椭球形谐振腔更适合用于高功率、高压力的金刚石膜沉积环境。这意味着,使用椭球形谐振腔,可获得更高的金刚石膜生长速率。

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来源
《人工晶体学报》 |2008年第4期|895-900|共7页
作者
王凤英; 郭会斌; 唐伟忠; 吕反修;
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作者单位

北京科技大学材料科学与工程学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
金刚石膜; 微波等离子体; FDTD方法; 数值模拟;

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