氩气对直流弧光放电PCVD金刚石薄膜晶体特征的影响

张湘辉; 汪灵; 龙剑平; 常嗣和

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氩气对直流弧光放电PCVD金刚石薄膜晶体特征的影响

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本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究。采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察。结果表明,氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响。在CH4/H2恒定时(0.8%),硬质合金基体上制备的金刚石薄膜表面形貌随Ar流量增加而变化的规律,即从以(111)八面体晶面为主→(111)和(100)立方八面体混杂晶面→以(100)立方体晶面为主→菜花状的顺序转变;当Ar流量为420～700mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由1.5μm逐步增大到7μm;Ar流量为700～910mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由7μm急剧减小到纳米尺度,约50nm。

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来源
《人工晶体学报》 |2010年第1期|130-134|共5页
作者
张湘辉; 汪灵; 龙剑平; 常嗣和;
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作者单位

成都理工大学材料与化学化工学院;

成都理工大学金刚石薄膜实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
金刚石薄膜; 晶体特征; 直流弧光放电等离子体CVD;

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