磁控溅射陶瓷薄膜(SiOx)阻隔性机理的研究

刘壮; 林晶; 孙智慧; 高德

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磁控溅射陶瓷薄膜(SiOx)阻隔性机理的研究

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研究了磁控溅射镀陶瓷薄膜(SiOx)使PET基体阻隔性提高的机理,并对SiOx层的堆积结构做了假设及理论分析,结合SEM形貌表明:磁控溅射SiOx层存在层状结构及针孔随机分布,阻隔性的提高可由努森扩散和层流两种机理加以解释,即在一定的压力差下,阻隔性提高决定于针孔的分布、陶瓷层厚度以及SiOx层数。

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来源
《包装工程》 |2008年第10期|12-14|共3页
作者
刘壮; 林晶; 孙智慧; 高德;
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作者单位

哈尔滨商业大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;玻璃、陶瓷;
关键词
磁控溅射; 陶瓷膜; 努森扩散; 层流;

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