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交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜的特性研究

         

摘要

以双靶射频溅射和交替沉积的方法制备了不同化学组成的BaM铁氧体薄膜。对所沉积的薄膜进行了两种不同方式的热处理。通过热处理后铁氧体薄膜的X射线衍射(XRD),逆转换电子穆斯堡尔谱(CEMS)及原子力显微镜(AFM)等微观结构的分析和宏观磁性的测试,结果表明两步骤退火过程对于垂直取向结构的形成是有利的。

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