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张志锋; 张鹤鸣; 胡辉勇; 宣荣喜; 宋建军;
西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室;
应变硅; 阈值电压; 反型层; 弛豫衬底;
机译:使用带有Si1-yCy源极和漏极应力源的应力场的应变Si沟道NMOSFET
机译:堆叠式a-Si / Poly-Si栅极和氮化盖提高了局部应变沟道nMOSFET的迁移率
机译:低于50 nm应变沟道nMOSFET的Si1-yCy / Si / SiO2接口的电性能
机译:小型应变Si nMOSFET阈值电压建模的研究
机译:应变对硅CMOS晶体管的影响:阈值电压,栅极隧穿电流和1 / f噪声特性。
机译:氟化HfO2 / SiON栅堆叠的单轴应变nMOSFET的电学特性
机译:硅锗(SiGe)衬底上带有应变硅(s-Si)沟道的短沟道双材料栅极(DMG)MOSFET阈值电压的分析模型
机译:si1-xGex / si和si / Ge应变层超晶格的光致发光研究
机译:利用激光退火形成应变Si沟道和Si 1-x Sub> Ge x Sub>源极/漏极结构
机译:在NMOS沟道上具有应变SiGe鳍和应变Si覆层的CMOS FinFET器件
机译:p沟道晶体管和n沟道晶体管的特性,在正体偏置中的自适应阈值电压控制
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