光学玻璃抛光材料用超细CeO_2前驱体的制备

李进; 何小彬; 辜子英; 胡平贵; 彭德院; 李永绣

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以低铈混合氯化稀土为原料,NH3·H2O为沉淀剂,空气和H2O2为氧化剂,经选择性氧化沉淀、洗涤、烘干、煅烧制备用于光学玻璃抛光材料的超细CeO2前驱体。研究了氧化沉淀条件与加料方式对前驱体中氧化铈含量的影响,以及煅烧温度与前驱体粉末粒度、比表面和物相组成的相关关系。结果表明:采取正序滴加进料方式,控制沉淀过程pH值在4.5～5.5范围,可以使Ce3+氧化成Ce4+并形成氢氧化物沉淀而与其他稀土离子分离,沉淀物在600～700℃煅烧,得到CeO2含量大于80%,中位粒径D50小于1.5μm的超细CeO2抛光粉前驱体。

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来源
《稀有金属与硬质合金》 |2003年第3期|1-4|共4页
作者
李进; 何小彬; 辜子英; 胡平贵; 彭德院; 李永绣;
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作者单位

南昌大学化学与材料科学学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TF123.25;
关键词
超细CeO2; 抛光粉前驱体; 抛光材料;

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