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邵淑英; 范正修; 邵建达; 沈卫星; 江敏华;
中科院上海光学精密机械研究所薄膜技术研究与发展中心;
中科院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室;
SiO2薄膜; 氧分压; 残余应力; 表面形貌; 折射率; 电子束蒸发;
机译:沉积速率和热处理对电子束蒸发制备的Al_2O_3-ZrO_2纯混合薄膜的微观结构,形貌,光学性质和超快激光损伤阈值的影响
机译:通过电子束蒸发技术沉积ZnS薄膜,厚度对结晶和光学性质的影响
机译:掺Sb对电子束蒸发沉积CdSe薄膜的结构,光学,形貌和电学性质的影响
机译:通过RF磁控溅射形成的纳米晶ZnO薄膜的氧分压影响结构,形态学和光学性质
机译:结构对金属薄膜和超晶格的机械和磁传输性质的影响。
机译:质子化诱导的无机 - 有机磷钼酸/聚苯胺杂交薄膜的增强光学光学光学性质
机译:氧分压对IN2O3薄膜结构和光学性质的影响
机译:刷涂纳米粒子聚合物薄膜:结构 - 机械 - 光学性质。
机译:具有可变光学性质的构造元件,影响这些光学性质的方法及其用途
机译:具有可变光学性质的部件,影响其光学性质的方法及其用途
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