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X射线照射对EL-4细胞内NF-κB的DNA结合活性的影响

         

摘要

通过电泳移动变化分析 (EMSA)及免疫组织化学 (IHC)的方法分别检测了 2 Gy和 0 .0 75 GyX射线照射的 EL- 4细胞内转录因子 NF- κB的 DNA结合活性的时程变化和 p6 5亚基胞浆胞核分布情况及 NF- κB抑制因子 IκBα水平的时程变化。结果表明 ,2 Gy和 0 .0 75 Gy X射线照射均可诱导 NF- κBp5 0 / p5 0和 p5 0 / p6 5的 DNA结合活性增强 ,但两种二聚体在两种剂量照射后的结合活性比值不同。0 .0 75 Gy照射诱导 p5 0 / p6 5活性增强为主 ,2 Gy照射诱导 p5 0 / p5 0活性增强为主。2 Gy和 0 .0 75 Gy均诱导 p6 5核转位增多和 IκBα的先降解后表达增多 ,但程度不同。提示不同剂量照射引起的转录调节变化不同 ,因此引起不同的细胞效应。

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