基于电沉积过渡层沉积CVD金刚石薄膜的研究

卢文壮; 左敦稳; 王珉; 黎向锋; 徐锋

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基于电沉积过渡层沉积CVD金刚石薄膜的研究

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在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝CVD法沉积出金刚石薄膜。利用SEM和Raman对金刚石薄膜进行了研究,对影响膜基结合强度的因素进行了分析,利用压痕法对金刚石薄膜与基体的结合强度进行了检验。结果表明,在Cr过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能较好,优于在Cu、Ni过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能。

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来源
《人工晶体学报》 |2004年第1期|13-17|共5页
作者
卢文壮; 左敦稳; 王珉; 黎向锋; 徐锋;
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作者单位

南京航空航天大学机电学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
CVD金刚石膜; 电沉积; 过渡层; 硬质合金; 结合强度; 热丝CVD法;

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