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热解CVD法生长金刚石薄膜

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摘要

本文以有机低分子化合物和氢气为反应气体,用热解 CVD 法生长出金刚石多晶薄膜。用喇曼散射、X 射线衍射、反射高能电子衍射和电子显微镜等方法进行了结构表征。论述了碳源浓度、热丝温度、基片温度和预处理工艺对金刚石薄膜结构和性能的影响。

著录项

来源
《人工晶体学报》 |1989年第4期|305-310|共6页
作者
张志明; 丁正明; 万锃; 庄志诚; 李胜华;
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作者单位

上海交通大学;

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正文语种 chi
中图分类人造金刚钻;
关键词
金刚石; 薄膜; 化学气相沉积;

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