基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算

丁文革; 苑静; 李文博; 李彬; 于威; 傅广生

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基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算

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采用紫外-可见透射光谱仪测量了对靶磁控溅射沉积法制备的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的透射光谱和反射光谱.利用T/(1-R)方法来确定薄膜的吸收系数,进而得到薄膜的消光系数;通过拟合薄膜透射光谱干涉极大值和极小值的包络线来确定薄膜折射率和厚度的初始值,并利用干涉极值公式进一步优化薄膜的厚度值和折射率;利用柯西公式对得到的薄膜折射率进行拟合,给出了a-Si:H薄膜的色散关系曲线.为了验证该方法确定的薄膜厚度和光学常量的可靠性,将理论计算得到的透射光谱与实验数据进行了比较,结果显示两条曲线基本重合,可见这是确定a-Si:H薄膜厚度及光学常量的一种有效方法.

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来源
《光子学报》 |2011年第7期|1096-1100|共5页
作者
丁文革; 苑静; 李文博; 李彬; 于威; 傅广生;
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作者单位

河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜测量与分析;
关键词
氢化非晶硅; 透射谱; 薄膜厚度; 光学常量;

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