TiO_2/TiN/PI低红外发射率迷彩薄膜制备及其特性研究

曹晔; 刁训刚; 孟超; 陈将乐; 顾宝霞

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TiO_2/TiN/PI低红外发射率迷彩薄膜制备及其特性研究

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采用多弧离子镀在聚酰亚胺(PI)基底上制备了TiO2/TiN低红外发射率迷彩薄膜,通过控制溅射的时间,使制备出的薄膜在可见波段具有各种丰富的颜色效果,使其具有迷彩特性,通过制备工艺的优化使其在8μm^14μm波段具有较低的红外发射率。采用扫描电镜、红外辐射率测量仪、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征。实验结果表明,采用多弧离子镀成功的在PI基底上制备了具有多种颜色的发射率最低0.27的低红外发射率薄膜。

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来源
《真空科学与技术学报》 |2009年第2期|213-217|共5页
作者
曹晔; 刁训刚; 孟超; 陈将乐; 顾宝霞;
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作者单位

北京航空航天大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
多弧溅射; 低发射率; 迷彩; 多层薄膜;

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