通过制备Ti/TiC和Si/Si_xN_y过渡层在铜基体上沉积类金刚石膜的研究

王静; 刘贵昌; 汲大鹏; 徐军; 邓新禄

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将磁控溅射物理气相沉积(MS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术相结合,在铜基体上通过制备两种不同的过渡层,成功地沉积了类金刚石膜。拉曼光谱结果分析表明,所制备的碳膜都具有典型的类金刚石结构特征。通过原子力显微镜对薄膜的微观形貌进行分析,采用纳米压痕测量薄膜的硬度和模量。并对Ti/TiC过渡层和Si/SixNy过渡层上沉积的类金刚石薄膜进行了研究对比。

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来源
《真空科学与技术学报》 |2006年第5期|397-403|共7页
作者
王静; 刘贵昌; 汲大鹏; 徐军; 邓新禄;
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作者单位

大连理工大学化工学院;

大连理工大学三束材料改性国家重点联合实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
类金刚石膜; 铜基体; 过渡层; 拉曼光谱(Raman); 原子力显微镜(AFM); 纳米压痕;

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