p型Cu_2O半导体薄膜的电化学沉积研究

胡飞; 江毅; 梁建

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以透明导电玻璃(ITO)和铜片为工作电极,用简单铜盐通过阴极还原制备了Cu2O薄膜。采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究了反应温度、pH值和电流密度对Cu2O薄膜的微观结构和表面形貌的影响,并对薄膜的生长机理进行了讨论。结果表明:溶液的温度对Cu2O晶体的微观结构无显著影响,而溶液的pH值对Cu2O的生长取向影响明显。在双电极的作用下,电沉积Cu2O薄膜的工作电流可以达到6 mA.cm-2,远远高于文献报导在三电极体系下低于1 mA.cm-2的工作电流密度。

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来源
《人工晶体学报》 |2009年第4期|952-956|共5页
作者
胡飞; 江毅; 梁建;
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作者单位

景德镇陶瓷学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类红外探测、红外探测器;
关键词
氧化亚铜; 电沉积; 温度; 电流密度;

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