纳米压印技术的工艺和图形精度研究

司卫华; 董晓文; 顾文琪

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纳米压印技术的工艺和图形精度研究

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纳米压印技术通过压印实现了纳米结构的图形转移,具有分辨率高、效率高、成本低的优点。通过对纳米压印过程中影响图形精度的一些因素进行分析,提出了相应的解决方法。结合研制的NIL-01型压印机进行工艺实验,给出纳米压印工艺实验的结果,并对结果进行了分析。试验表明:考虑到影响压印图形精度的各种因素,采用镀有Cr的SiO2模版和NIL-01型压印机,用热压印技术可以压印出具有100 nm特征尺寸的PMMA图形。

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来源
《半导体光电》 |2006年第4期|441-444|共4页
作者
司卫华; 董晓文; 顾文琪;
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作者单位

中国科学院电工研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺;
关键词
纳米压印; 压印图形; 图形精度; 模版;

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