滚型纳米压印工艺的研究进展和技术挑战

李朝朝; 兰红波

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滚型纳米压印光刻是一种高效、低成本制造大面积微纳米结构的新型图形化方法,不同于传统的平板式纳米压印工艺,滚型纳米压印具有高效、连续压印独特的优势.它在抗反射光学薄膜、太阳能电池、柔性电子器件、OLED、大尺寸LCD显示、微流控器件等领域已经展示了巨大的潜能和商业化应用前景.综述了滚型纳米压印工艺的最新研究进展,并讨论了其面临的挑战性技术难题、未来的发展趋势和工业化应用前景.

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来源
《青岛理工大学学报》 |2013年第3期|79-85|共7页
作者
李朝朝; 兰红波;
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作者单位

青岛理工大学纳米制造和光电子实验室,青岛266033;

青岛理工大学纳米制造和光电子实验室,青岛266033;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
纳米压印; 滚型纳米压印; 滚对滚纳米压印; 纳米制造;

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