用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究

单明广; 郭黎利; 钟志

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研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.

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来源
《光子学报》 |2009年第11期|2880-2884|共5页
作者
单明广; 郭黎利; 钟志;
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作者单位

哈尔滨工程大学信息与通信工程学院;

哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
并行激光直写; 连续浮雕衍射透镜; 深浮雕; 衍射效率;

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