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郑锦华; 许璐; 范忠雷; 马新灵;
郑州大学化工与能源学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心;
郑州瑞邦石油机械有限公司;
类金刚石薄膜; 薄膜沉积厚度; Ansys; 气体密度; 气体流速;
机译:在沉积速率的影响下,从单个DC磁控溅射沉积的季镍纤维薄膜的易于控制性能
机译:气体流速对SiH4等离子体化学气相沉积法制备的a-Si:H薄膜沉积速率和团簇掺入量的影响
机译:沉积速率和离子轰击对H辅助等离子体CVD法沉积a-C:H薄膜性能的影响
机译:基质温度对气-射流电子束等离子体化学气相沉积法沉积A-SI:H薄膜的光学性质和沉积速率的影响
机译:使用ECR-PECVD的氢化非晶硅锗薄膜和器件的高生长速率沉积。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:沉积速率对脉冲激光沉积金属对绝缘子薄膜形貌演变的影响
机译:沉积速率对脉冲激光烧蚀Bi2sr2CaCu2O(8 + x)和Bi2sr(1.6)La(0.4)CuO(66 + x)外延薄膜生长的影响。
机译:能够通过缩短源气体和反应气体之间的反应时间来提高沉积速率的薄膜制造装置以及使用该薄膜沉积薄膜的方法
机译:用于沉积非晶态IGZO薄膜的溅射装置,使用该薄膜的电子设备的基板以及制造能够提高沉积速率的显示装置的方法
机译:薄膜沉积的装置和同时提高附着力和沉积速率的沉积方法
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