一种制作量子尺寸超微细图形的新方法

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• 来源
  《仪器仪表学报》 |1996年第s1期|251-251+259|共2页
• 作者

  傅绍军; 夏安东; 洪义麟; 田扬超;

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• 作者单位

  中国科技大学国家同步辐射实验室;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
• 关键词

  超微细图形; 量子尺寸; 量子微结构; 国家同步辐射实验室; 光栅图形; 新方法; 透射光栅; 中国科技大学; 等离子体氧化; 电子束曝光;