电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究

张光勇; 薛亦渝; 郭培涛; 王汉华; 马中杰

首页> 中文期刊> 《压电与声光》 >电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究

电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

通过正交实验,以Ta2O5为初始膜料,采用离子源辅助电子束蒸发技术制备了Ta2O5光学薄膜。透射光谱显示,所制备的Ta2O5光学薄膜具有较高的透射率,极值点透射率约为93%,接近K9玻璃基片的透射率。极差分析表明,基片温度和离子源氧气流量是影响薄膜透射率的两个主要因素,而沉积速率的影响很小。分析了各制备参数对Ta2O5薄膜光学性能的影响,得到了采用离子源辅助电子束蒸发制备Ta2O5光学薄膜的最佳工艺参数。

著录项

来源
《压电与声光》 |2008年第1期|12-15|共4页
作者
张光勇; 薛亦渝; 郭培涛; 王汉华; 马中杰;
展开▼
作者单位

武汉理工大学材料科学与工程学院;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
Ta2O5; 电子束蒸发; 透射率;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 电子束蒸发Ar离子辅助沉积Si光学薄膜的特性 [J] . 舒雄文 ,徐晨 ,田增霞 . 半导体光电 . 2006,第6期
2. 脉冲激光沉积Ta_2O_5薄膜的Al/Ta_2O_5/n-Si结构的C-V和DLTS研究 [J] . 张胜坤 ,付正文 ,柯炼 . 自然科学进展：国家重点实验室通讯 . 1998,第3期
3. 双源电子束蒸发提高光学薄膜致密性的工艺研究 [J] . 赵妙 ,谭满清 ,周代兵 . 光电子．激光 . 2007,第1期
4. 电子束蒸发非晶硅光学薄膜工艺研究 [J] . 舒雄文 ,徐晨 ,田增霞 . 光电子．激光 . 2006,第8期
5. 退火对TiO_2和Ta_2O_5光学薄膜的结构和光学性质的影响 [J] . 赖发春 ,瞿燕 ,詹仁辉 . 福建师范大学学报：自然科学版 . 2006,第1期
6. 电子束蒸发沉积ITO透明导电薄膜的物理性质研究 [C] . 田洪涛 ,谢雪峰 ,吴启保 . 第九届全国LED产业研讨与学术会议 . 2004
7. 偏压电子束蒸发沉积氧化物光学薄膜研究 [A] . 黄磊 . 2006

电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅