气体介质对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响

邹友生; 汪伟; 宋贵宏; 汪爱英; 孙超; 黄荣芳; 闻立时

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气体介质对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响

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采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上分别在高纯Ar、高纯H_2和C_2H_2的气氛下沉积类金刚石膜,利用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对沉积膜的结构进行了分析。结果表明与在高纯H_2和C_2H_2气氛下相比,在高纯Ar中沉积类金刚石膜Raman谱的,I_D/I_G值最小,膜中sp^3C含量最高为35.55％。纳米压痕仪测量结果表明不同气氛下沉积膜的硬度和弹性模量分别在16.7～34.8GPa和143.2～236.9GPa之间变化。在高纯Ar气氛下沉积膜的硬度和弹性模量最大分别为34.8GPa和236.9GPa。

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来源
《人工晶体学报》 |2003年第6期|613-617|共5页
作者
邹友生; 汪伟; 宋贵宏; 汪爱英; 孙超; 黄荣芳; 闻立时;
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作者单位

中国科学院金属研究所;

中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室;

沈阳工业大学;

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正文语种 chi
中图分类人造金刚钻;
关键词
类金刚石膜; 电弧离子镀; 气体介质; 微观结构; 力学性能;

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