TM-1201溅射台及其工艺的完善

机译：2013年度第1次研究会召开的通知了解溅射工艺！第1部分：探索反应溅射中的动态质量平衡和工艺稳定性

机译：AR和Ar / O-2大气中Zn / Al靶标的高功率脉冲磁控溅射：溅射工艺和偶氮膜的研究

机译：用于高功率脉冲溅射磁控管的自溅射，工艺气回收和失控的统一处理

机译：使用远程等离子溅射工艺在环境温度下沉积低应力无定形锌氧化锡，适用于精致基材的远程等离子体溅射工艺

机译：通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌，氧化铟锡和钼薄膜的表征

机译：溅射装饰工艺设计TiO2-Ag2O复合纳米棒的纳米尺度表面形貌及其低浓度NO2气敏特性

机译：直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下CNX薄膜生长的比较研究

机译：离子束溅射沉积高（Tc）超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究：沉积参数的优化。

机译：通过反应性高能溅射工艺沉积层，方法是在基板上通过溅射工艺喷涂部分层，然后在基板上沉积层，其中通过脉冲模式操作的磁控管执行溅射工艺

机译：旋转圆筒型磁控溅射阴极靶组件，溅射阴极组件，溅射系统及使用该溅射膜的薄膜生产工艺

机译：棒状磁控管或溅射阴极装置，溅射工艺，实施该工艺的装置和管状靶