FSI国际宣布将ViPR^(TM)全湿法去除技术扩展到NAND存储器制造

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全球领先的半导体制造晶圆加丁、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司3月24日宣布：一家主要的存储器制造商将FSI带有独特ViPR^TM全湿法无灰化清洗技术的ZETA。清洗系统扩展到NAND闪存生产中。许多器件制造商对采用FSI的ZETAViPR技术在自对准多晶硅化物形成过程所带来的益处非常了解。该IC制造商就这一机台在先进的NAND制造中可免除灰化引发损害的全湿法光刻胶去除能力进行了评估。

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来源
《电子与封装》 |2009年第4期|45-45|共1页
作者
本刊通讯员;
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;存贮器;
关键词
NAND闪存; 半导体制造; 去除技术; FSI; 全湿法; 存储器; 国际; 清洗技术;

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