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热壁LPCVD多晶硅膜的质量分析

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摘要

对就热壁ＬＰＣＶＤ多晶硅的基本原理、典型淀积条件、掺杂、均匀性引起多晶硅膜层表面“发乌”、“发雾”的原因和提高多晶硅膜质量的工艺措施作了分析和研究。

著录项

来源
《电子工业专用设备》 |1998年第4期|37-41,44|共6页
作者
程开富;
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作者单位

重庆光电技术研究所;

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正文语种 CHI
中图分类制造工艺;
关键词
热壁LPCVD; 多晶硅膜; 质量分析; 制造工艺; IC;

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