低压反应离子镀新工艺及其设备

机译：反应性低压离子镀制备的不同介电薄膜的光学性质和机械应力概述

机译：通过电子束沉积，反应性低压离子镀和双离子束溅射沉积的氧化f薄膜的抗激光损伤性

机译：反应性低压离子镀（RLVIP）技术沉积的氧化铟锡（ITO）透明导电膜

机译：真空退火对反应性低压离子镀技术制备的ITO薄膜性能的影响

机译：低压氮对氮化钛电弧离子镀钛阴极源的影响。

机译：低压纳米吸管介电泳设备用于快速捕获从健康供体血浆中提取的纳米颗粒和外泌体

机译：真空离子镀膜设备

机译：反应电子束和低压离子镀沉积高损伤阈值氧化物涂层的元素组成和光学吸收比较。

机译：在反应性离子镀设备中均匀保持沉积速率和化合物组成的方法和设备

机译：低压热解过程，例如用于在半导体晶片上制造电子设备的过程中，涉及使低压反应气体进入容器并在容器出口形成反应气体等离子体

机译：ARC离子镀膜设备和ARC离子镀膜设备的蒸发源