氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理

潘鑫; 马志斌; 李国伟; 曹为; 王传新; 付秋明

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氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理

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采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响.结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大,刻蚀效果逐渐增强;当工作气压由低气压向高气压变化时,等离子体参数先增大后减小,CVD金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势.

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来源
《强激光与粒子束》 |2014年第7期|243-247|共5页
作者
潘鑫; 马志斌; 李国伟; 曹为; 王传新; 付秋明;
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作者单位

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073;

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正文语种 chi
中图分类人造宝石、合成宝石的生产;薄膜物理学;
关键词
刻蚀; CVD金刚石; 等离子体参数; ECR等离子体;

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