高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析

余颖; 赵峰; 李文博; 张林; 袁晓东

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高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析

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研究了高功率激光装置光路中的分子级污染程度.采用专用空气采样动力设备及吸附管,在一定时间内对光路中的空气进行采样并作痕量分析后,得出了卤素、含硫化合物、可溶性胺类和氨、碳氢化合物 (C6～C16有机物) 4类物质在打靶前后的数密度变化.结果显示:除含硫化合物外,其余3种物质数密度超过了美国NIF标准的上限,其中氨和可溶性胺类、碳氢化合物的数密度超过较多;卤素、含硫化合物、氨和可溶性胺类的数密度在打靶后比打靶前有所降低,而碳氢化合物的数密度在打靶后比打靶前有所升高.结果表明在该装置中存在比较严重的气载分子污染物污染.分析了气载分子污染物数密度变化的原因以及可能的产生源,并对如何去除这些气载分子污染物提出了建议.

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来源
《强激光与粒子束》 |2009年第8期|1153-1156|共4页
作者
余颖; 赵峰; 李文博; 张林; 袁晓东;
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作者单位

四川大学,建筑与环境学院,成都,610065;

金开利环境工程有限公司,广东,深圳,518109;

金开利环境工程有限公司,广东,深圳,518109;

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

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正文语种 chi
中图分类污染分析与测定;
关键词
高功率激光装置; 光学元件损伤; 分子级污染物; 痕量分析;

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