用反差确定电子束曝光剂量与刻蚀深度的关系

著录项

• 来源
  《强激光与粒子束》 |2007年第8期|1377-1380|共4页
• 作者

  卢文娟; 张玉林; 孔祥东; 郝慧娟;

  展开▼
• 作者单位

  山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061;

  山东科技大学,信息与电气工程学院,山东,青岛,266510;

  山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061;

  东营职业学院,山东,东营,257091;

  山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  电子束光刻; 曝光剂量; 刻蚀深度; 反差; 吸收能量密度;