双离子束溅射非晶SiOxNy薄膜的光致发光研究

成珏飞

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采用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,用X射线衍射分析(XRD),透射电子显微镜(TEM),X射线光电子能谱(XPS),傅立叶变换红外(FTIR)等对薄膜的结构进行了表征,分析了样品的光致发光(PL)特性.X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)结果表明该薄膜具有非晶结构.XPS测试表明N1s的特征峰位于398eV,对应于N-Si键.在光吸收谱中,与Si-SiO2薄膜相比,SiOxNy的光学带隙得到展宽.在225nm的激光激发下,样品在室温下可发射可见光,峰位位于590nm,与N的缺陷有关.

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来源
《信息记录材料》 |2007年第4期|29-32|共4页
作者
成珏飞;
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作者单位

苏州职业大学,基础部,苏州,215001;

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正文语种 chi
中图分类 TN383.2;
关键词
SiOxNy薄膜; 双离子束溅射; 光致发光;

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