退火温度对MoS2纳米薄膜微特性及光学性能的影响

成桢

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退火温度对MoS2纳米薄膜微特性及光学性能的影响

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cqvip:本论文使用射频磁控溅射法在硅衬底上制备不同退火温度下的MoS2薄膜,利用SEM、XRD、光谱仪等手段对薄膜的表面形貌、结构、反射率等进行表征,分析退火温度对MoS2薄膜性能的影响。研究结果表明:退火温度对MoS2薄膜表面形貌影响明显,不同退火温度会改变MoS2薄膜XRD衍射峰的位置。退火温度越高,MoS2薄膜生长质量越好,MoS2薄膜反射率越高。

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来源
《信息记录材料》 |2020年第2期|31-33|共3页
作者
成桢;
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作者单位

西安文理学院应用物理研究所陕西西安 710065;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类工程材料一般性问题;
关键词
磁控溅射法; MoS2薄膜; 表面形貌; 光学性能;

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