利用原子淀积Al2O3对InP光学稳定性的研究

房丹; 唐吉龙; 魏志鹏; 赵海峰; 方铉; 田珊珊; 楚学影; 王晓华

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利用原子淀积Al2O3对InP光学稳定性的研究

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提出一种钝化InP表面的新方法———湿法钝化和干法钝化相结合。这种新型的钝化方式有效地降低了InP表面态密度,并使其表面暴露在空气中一段时间后仍具有较好的稳定性。实验利用光致发光（PL）谱,对样品的发光性质进行测试。通过对样品进行XPS测试表明,通过对样品进行退火处理,可增强In-S键结合强度,进一步降低表面态密度。最后,利用原子力显微镜（AFM）对样品的表面形貌进行表征。

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来源
《红外与激光技术》 |2013年第12期|3386-3389|共4页
作者
房丹; 唐吉龙; 魏志鹏; 赵海峰; 方铉; 田珊珊; 楚学影; 王晓华;
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作者单位

1. 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 2. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;

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正文语种 chi
中图分类化合物半导体;
关键词
InP; 硫化; 退火; 光致发光谱; Al2O3;

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