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张宇; 金春水; 马冬梅; 王丽萍;
1. 东北电力大学理学院 2. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室;
光学检测; 双光纤相移点衍射干涉仪; 精度分析; 波面重复精度;
机译:掩模和地形引起的相位效应和光学和极紫外光刻中的波像差
机译:具有直接倾斜过程的离轴极紫外光刻物镜系统的设计方法
机译:极紫外施瓦兹物镜的像差诊断和对准新技术
机译:设计用于11 nm节点的极紫外光刻物镜
机译:极紫外光刻(EUVL)掩模载体系统的建模,检测和保护方案。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:极紫外光刻物镜设计中的网络搜索方法
机译:用于极紫外光刻的扩展场schwarzschild物镜的表征
机译:极紫外光刻系统,具有检测器以检测散射在测试区域中被照射颗粒上的光源的辐射,以及用作极紫外光源的光源,用于在晶片上产生结构
机译:利用反射像差控制极紫外光刻系统中的目标
机译:用于检测光刻机中的投影物镜系统的波前像差的装置和方法
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