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利用RIE技术形成真空磁敏传感器的场发射阵列电子源

         

摘要

作者将现有DD-250淀积设备改装后用于RIE刻蚀,能够刻蚀出良好的FEA尖端阵列,并摸索出了一套RIE刻蚀磁敏传感器器件的FEA尖端的工艺条件和工艺参数。本文对各种工艺条件和工艺参数作了具体描述。

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