首页> 中文期刊> 《仪器与设备》 >一种基于光学临近修正建模方法的光刻机台匹配方法

一种基于光学临近修正建模方法的光刻机台匹配方法

         

摘要

先进工艺技术节点的光学临近效应修正(Optical Proximity Correction, OPC)及其依赖光刻机和光刻工艺的属性,导致经OPC修正后的掩模板难以在不同型号的光刻机之间转移。针对该问题,本文充分考虑光刻机台的焦距模糊扰动对光刻机台的匹配影响,建立可应用于焦距模糊扰动条件下的光刻机台的匹配方法,以期提高光刻工艺在不同机台上的光刻机台匹配效率。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号