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莫南云; 王晓静; 詹兴刚;
贵州航天职业技术学院 遵义563000;
贵州航天精工制造有限公司 遵义563000;
磁控溅射; 双靶材; 镀铝设备;
机译:使用Ca3Co4O9和CaMnO3靶材的双极脉冲直流磁控溅射系统制备薄膜
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:7.2 MeV电子束强烈碰撞,撞击镀铝聚酯薄膜靶材
机译:有效利用靶材的旋转双磁控溅射系统的开发
机译:研发出用于镍基高温合金和不锈钢的热循环氧化和热腐蚀防护的离子镀铝化物扩散涂层。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:ZDDP在钛合金对钛合金对不同靶材料的摩擦激光诱导的周期性表面结构的作用
机译:最佳成型工艺和设备必须生产高质量,紧密容差的钛合金零件。
机译:平衡脉冲双磁控溅射(DMS)工艺中靶材消耗的方法
机译:平衡脉冲双磁控溅射(DMS)工艺中靶材消耗的系统和方法
机译:用于通过磁控溅射沉积不同材料的合金,混合物或不同产物的反应层的涂覆装置具有由同心布置的局部靶材制成的靶材,每个靶材均由待沉积材料制成
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