第5届国际半导体界面形成会议概况

丁训民

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cqvip:第5届国际半导体界面形成会议(ICFSI-5)于1995年6月26日至30日在美国普林斯顿大学举行。与会代表200多人,会上交流论文近200篇。从国内(大陆)赴会的学者有谢希德教授和笔者。半导体界面形成会议是一个专门讨论与半导体表面和界面研究有关的学术问题的国际系列会议。本届会议是该系列会议第一次在美国举行,因而几乎所有本领域内的美国权威学者都带着各自最新的研究成果参加了会议。

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来源
《国际学术动态》 |1996年第2期|49-50|共2页
作者
丁训民;
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作者单位

复旦大学应用表面物理国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
半导体; 国际会议; 界面形成会议;

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