首页> 中文期刊> 《国际眼科杂志》 >羟基磷灰石义眼座植入后暴露原因分析与处理

羟基磷灰石义眼座植入后暴露原因分析与处理

         

摘要

目的探讨分析羟基磷灰石(HA)义眼座植入后暴露的原因及处理.方法对¨例HA义眼座植入后发生暴露的患者进行回顾性总结分析.结果HA义眼座轻度暴露<5mm,一般不须处理,2~9个月可以愈合.中度暴露≤10mm,可药物观察治疗,也可行结膜修补术.重度暴露10~25mm,巩膜溶解HA义眼座大面积暴露,行HA义眼座取出,结膜囊修补,自体真皮脂肪瓣修补缺损区.结论义眼座暴露为HA义眼座植入术后较严重并发症,真皮脂肪瓣,保存人羊膜都可用于结膜囊形成与修复,双层袋状巩膜缝合,置于HA义眼座前,可有效减少植入物的脱出.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号