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钴离子印迹聚合物的制备及性能研究

     

摘要

以Co2+为模板,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺(TPED)为功能单体,四乙氧基硅烷(TEOS)为交联剂,采用表面印迹法合成出钻离子印迹聚合物,并研究了印迹聚合物对Co2+的吸附性能.

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  • 作者单位

    安庆师范学院,化学与化工学院,安徽,安庆,246011;

    安徽师范大学,化学与材料学院,安徽,芜湖,241000;

    安庆师范学院,化学与化工学院,安徽,安庆,246011;

    安徽师范大学,化学与材料学院,安徽,芜湖,241000;

    安庆师范学院,化学与化工学院,安徽,安庆,246011;

    安徽师范大学,化学与材料学院,安徽,芜湖,241000;

    安庆师范学院,化学与化工学院,安徽,安庆,246011;

    安徽师范大学,化学与材料学院,安徽,芜湖,241000;

    安庆师范学院,化学与化工学院,安徽,安庆,246011;

    安徽师范大学,化学与材料学院,安徽,芜湖,241000;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 仪器分析法(物理及物理化学分析法);
  • 关键词

    分子印迹聚合物; TEOS; 钴; 吸附率;

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