钴离子(Ⅱ)印迹聚合物的制备及性能研究

赵莉; 余荟宇; 李鹏; 胡德琼; 刘迎梅; 字富庭; 胡显智; 成会玲

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钴离子(Ⅱ)印迹聚合物的制备及性能研究

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采用沉淀聚合法,以丙烯酰胺(AM)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,对致孔溶剂的种类及用量、功能单体及交联剂的用量等实验条件进行了优化,分别制备了16种钴离子(Ⅱ)印迹聚合物(Co(Ⅱ)-IIPs)及相应的非印迹聚合物(NIPs).平衡吸附实验结果表明,最佳条件下制备的印迹聚合物Co(Ⅱ)-IIP6具有较大的吸附容量和较高的印迹因子.用扫描电子显微镜(SEM)及氮气吸附(BET)对Co(Ⅱ)-IIP6及相应的非印迹聚合物NIP-6的外部形态和内部结构进行了表征;并结合电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)分析了Co(Ⅱ)-IIP6的吸附性能及吸附选择性.结果表明,与NIP-6相比较,Co(Ⅱ)-IIP6对Co(Ⅱ)具有较强的吸附能力和较好的吸附选择性.说明Co(Ⅱ)-IIP6对Co(Ⅱ)有较好的选择识别能力,有望用于实际样品中Co(Ⅱ)的分离富集.

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来源
《云南大学学报：自然科学版》 |2020年第5期|949-957|共9页
作者
赵莉; 余荟宇; 李鹏; 胡德琼; 刘迎梅; 字富庭; 胡显智; 成会玲;
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作者单位

昆明理工大学理学院;

云南昆明650500;

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正文语种 chi
中图分类其他天然高分子化合物;
关键词
钴离子(Ⅱ); 离子印迹聚合物; 沉淀聚合法; 吸附选择性;

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