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介绍一种光精密清洗机

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＜正＞通常熟知的去污办法,是使用水、药物和超声波等进行清洗。而今出现一种“光精密清洗”的全新的理想装置。即,日本Vshio电机公司的光清洗机FOTOLEX,它是一种利用紫外线能量,以分子级形式对半导体等表面的沾污进行清洗的装置。

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来源
《应用光学》 |1987年第2期|67-68|共2页
作者
市川晃; 王正和;
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作者单位

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