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用射频低温氧化法去除未熟烃源岩中的有机质方法研究

         

摘要

利用GP02-A高频感应加热设备产生高频磁场,等离子体在高频磁场中激活氧气形成活性氧,活性氧在低温低压下氧化烃源岩中的有机质,从而达到去除有机质并确定其含量的目的.采用射频低温氧化法对我国7个盆地未熟烃源岩进行了有机质去除的实验,结果表明,在最佳条件下用20~40 h可把未熟烃源岩中的有机质去除,我国7个盆地未熟烃源岩中有机质的质量含量为1.53%~3.17%.

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