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夏磊; 周荃; 徐金洲; 张菁;
东华大学,理学院,上海,201620;
常压等离子体化学气相沉积(APECVD); 多孔硅基薄膜; 负偏压; 荧光(PL);
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的超低k纳米多孔氟化硅基薄膜的特性
机译:常压等离子体增强CVD法在PET上制备二氧化硅基薄膜的阻气性
机译:亚常压化学气相沉积(SACVD)O3-TEOS UG,BPSG,PSG和等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)PSG薄膜作为微流体分配装置中的牺牲层
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:常压化学气相沉积法制备氟掺杂氧化锡薄膜的性能
机译:高效薄膜光伏器件的常压化学气相沉积和CdTe的气相沉积
机译:常压等离子体和常压等离子体产生装置在有机薄膜中的二氧化碳固定化
机译:常压等离子体产生装置,常压等离子体产生电路和常压等离子体产生方法
机译:常压化学气相沉积系统的感受器冷却方法和常压化学气相沉积装置
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