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HE Changan; WANG Qingguo; QU Zhaoming; LU Pin; WANG Yan;
二氧化钒薄膜; 磁控溅射; 晶体生长; XRD; 溅射气压; 氧气分压; 场致相变;
机译:工艺参数对射频磁控溅射掺杂氧化锌透明导电薄膜生长和性能的影响
机译:工艺参数对掺钼二氧化钒纳米棒相变性能的影响
机译:具有不同惰性气体的CNX薄膜生长的直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射工艺的对比研究
机译:工艺参数对封闭场不平衡磁控溅射沉积的CRNX涂层性能的影响
机译:磁控溅射薄膜生长过程中的脉冲偏置。
机译:衬底形态对碳纳米管薄膜生长和场发射特性的影响
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下CNX薄膜生长的比较研究
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:在磁控溅射工艺中控制等离子体的工艺包括使用沿着磁控管轨道布置的屏幕局部影响等离子体
机译:二氧化钒纳米线,其制造工艺以及使用二氧化钒纳米线的纳米装置
机译:为此目的控制反应性高性能-脉冲-磁控溅射工艺的方法和设备,
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