衬底对直流磁控溅射制备TiO_2薄膜结构和形貌的影响

机译：衬底温度对直流磁控溅射Al和Ga共掺杂ZnO薄膜结构，形貌，电学和光学性质的影响

机译：衬底和退火对直流磁控溅射制备的LiCoO_2薄膜结构和电化学性能的影响

机译：衬底温度对脉冲注入MOCVD法制备的MoO _{2 薄膜结构和形貌特性的影响}

机译：Ar / O2气体流量比对直流磁控溅射制备的TiO2薄膜光催化效率的影响

机译：用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备，表征和沉积后修饰

机译：钇对喷雾热解法制备的CdO薄膜结构形貌和传输性能的影响

机译：基板对磁控溅射制备TiO2薄膜结构，形貌和光学性质的影响

机译：衬底配置对LIGa原型制备电沉积Ni晶粒结构和形貌的影响

机译：校正微电子衬底上的形貌影响的方法

机译：具有Tio2 / AG / TIO2多层薄膜结构的柔性透明电极及其制造方法

机译：掩模设计中的衬底形貌补偿：具有锚定形貌的3DOPC