衬底温度对AlN/ZnO复合薄膜结构形貌的影响

高扬; 许绍俊; 谌青青; 孟祥钦; 杨涛; 文忠; 张彩虹; 杨成韬

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衬底温度对AlN/ZnO复合薄膜结构形貌的影响

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采用直流反应磁控溅射法在ZnO/Si基片上制备了良好(002)(c轴)取向的AlN薄膜,利用XRD、AFM对不同衬底温度下制备的AlN薄膜的结构、形貌进行了分析表征。结果表明,在一定温度范围内(450～650℃),随着衬底温度的升高,晶粒逐渐长大,沉积速率增大,表面粗糙度先减小后增大;AlN(002)择优取向呈改善趋势,取向度先增大后减小,600℃时达到最佳。

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来源
《压电与声光》 |2012年第5期|753-755|共4页
作者
高扬; 许绍俊; 谌青青; 孟祥钦; 杨涛; 文忠; 张彩虹; 杨成韬;
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作者单位

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室;

川庆钻探有限公司地址勘探开发研究院;

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正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
AlN/ZnO复合薄膜; 磁控溅射; 衬底温度; 结构; 形貌;

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